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          Tantalum
          

                    
                    
          
                        
            
                          
          • Tantalum sputtering target
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                            Tantalum sputtering target                        
          
                    
            
                               
                    
                    
          
                	
          Tantalum sputtering target
          
                            
            
                                
          • Material: R05200
            • 
                                
          • Purity: ≥99.95%, ≥99.99%
            • 
                                
          • Dimension: Customization
            • 
                                
          • Standard: ASTM B708-2012
            • 
                                
          • Application:  Used for optical fiber, semiconductor wafer and integrated circuit of sputtering deposition coating. Used for glass, ceramic, LCD coating. Used for the cathode sputtering coating, high vacuum suction 
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                                     INQUIRY
                                    
            
                                
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	Material: R05200

          

          
	Purity: ≥99.95%,
≥99.99%

          

          
	Dimension: Customization

          

          
	Standard:
ASTM B708-2012

          
Application: Used for
optical fiber, semiconductor wafer and integrated circuit of sputtering
deposition coating. Used for glass, ceramic, LCD coating. Used for the cathode
sputtering coating, high vacuum suction active material etc.                    
          

                   

                
          
                      
                
            
          


            
		  
		  
        
          
    
           
    
    






    
  


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